半导体工业废水处理简述：

  半导体生产所产生的废水属于工业废水，现阶段在我国国内，在电子产品应用范围不断扩大的令天，半导体材料对在我国的发展趋势实际意义重特大。半导体所涉及到的领域许多，按照原材料和加工工艺的差异，所产生的废水特点也差异，但都具备排水量大、所造成的环境污染大等特点，在严重威胁生态环境保护身心健康的同时，也牵制了其发展趋势。

  按半导体材料生产制造废水的特征，将半导体生产废水分成三大类，其来源于主要是生产过程中产生的氟化物废水、有机化学废水和金属离子废水。

  1、含氟废水：废水关键来源于半导体材料生产制造工艺流程的浸蚀段，因为生产过程中使用了很多的盐酸、氟化铵等实验试剂，空气污染物浓度值较高，如氯化物、高锰酸盐指数等，废水一般呈强偏碱；

  2、有机化学废水：其空气污染物主要是一些基本空气污染物，生产制造浓度值与生产工艺流程和实际操作管理能力相关，COD一般在200~2500g/L上下；3、金属离子废水：半导体材料废水中金属离子类型多种，关键有铜、镍、锡、铅、银等，一般在几十mg/L上下。

半导体工业废水处理难点分析：

  含氟废水的浓度较高且处理存在一定的难度系数，一般的化学沉淀法难以彻底除去废水中氟离子，在出水水质需求较高时，应选用多种组成加工工艺进行处理。尽管半导体材料有机化学废水的浓度值不容易很高，可是水质差别非常大，必须按照分析检测結果来明确水质特点。对不同类型的浓度较高的金属离子废水，应分别采集和处理，假如废水中带有多种金属离子，则其含水量会提升。

半导体生产废水技术工艺：

  氟化物废水一般选用有机化学沉淀法，加药钙质和废水中氟离子产生CaF2，另配以助凝剂輔助可去除废水中氟离子。出水出水率规定高时，可与生物化学法、吸咐法等协同应用。一般选用经济发展高效率的生物化学处理方式处理有机化学废水，如分别好氧法或与氧气不足厌氧发酵法融合处理，对废水中COD、高锰酸盐指数、高锰酸盐指数等基本空气污染物的除去实际效果十分不错。针对金属离子废水，则必须按照废水的差异类型进行选用，常见的有化学沉淀法，吸咐法，离子交换等。半导体材料工业化生产对水的需求非常大，对水质要求不高，为了更好地节约产品成本，春雷环境污水处理公司建议选用废水回用处理，可以大大降低企业用水成本。